AMC空气分析仪对产品质量的好坏至关重要

　　实践证明深紫外光刻工艺深受多种类微量污染物的影响，对很多微量污染物极为敏感，比如氨气或者酸性气体都会给半导体生产带来危害，尽管随着深紫外耐腐蚀材料技术的发展，已经减少了长时间持续实时监测，而实际上AMC空气分析仪对空气分子污染（AMC）的实时测量对产品质量的好坏至关重要。
 

　　

　　AMC空气分析仪也集成了多点监测系统，可依序将气体抽送到分析仪或传感器，并读出测量结果。猎户座3100S内嵌的报警、报告、分析软件是由多年半导体行业经验的工程师集体开发。模拟模块可以输出来自4~6台分析仪或传感器的数据。每台分析仪配有内置计算机，可进行数据存储和数据输出，还支持远程网络控制，通过互联网可以连接经销商服务商进行操作或者诊断。使用者可以通过网络浏览器比如IE、Chrome等世界任意可以联网的地方进行操作，远程操作可实现多级管理权限控制和操作。

　　

　　仪器基于CEAS（腔增强吸收光谱）技术，极简使用、便捷操作，所有部件（包括内置真空泵、键盘、鼠标、显示器等）几分钟内可开始记录数据，其他大气中的水汽、CO2、O2、甲烷等不会对HCL、HF、NH3等测量构成交叉干扰。内置计算机可logo2以存储大量数据到内置硬盘上，可同过数字接口或者模拟接口传输数据，可通过互联网远程存储或记录数据，高质量的数据库，适合于苛刻的半导体痕量级气体应用。

　　

　　AMC空气分析仪基于CEAS（腔增强吸收光谱）技术的仪器原理图，使用近红外波段光进行高灵敏度吸收测量，测量腔室由一组高反射率多次反射镜片组成的柱状体构成，激光束经过固态校准器时会测量得到相对激光波长。为了保证清晰度，忽略了原本照射到左侧测量单元腔镜外的光束。