AMC在线监测突破传统，让监测效率更高

　　AMC在线监测空气分子污染的实时监测对于半导体生产过程非常重要。快速监视，警报，低浓度测量，宽测量范围以及对多种气体的高度敏感响应是半导体行业的要求。深紫外光刻工艺特别注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的浓度测量。当这些气体与化学放大的光致抗蚀剂反应时，它们会严重影响半导体器件的质量。传统的古代方法大多使用间接测量和分析方法，包括冲击滤池，离子色谱法，化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作过程太复杂，价格昂贵且测量结果不准确。
 

　　AMC在线监测技术解决了AMC（空气分子污染物）监测的问题，该监测可以快速测量NH3，HCL，HF的痕量水平，使用脉冲荧光测量SO2，并使用增强的GC-FID测量VOC。3100S系列空气分子污染物监测系统可测量NH3，HCL，HF的痕量水平，并整合了uVOC-CAM的特性。它是用于半导体行业中洁净室AMC（空气分子污染）测量的强大工具。

　　AMC在线监测还集成了一个多点监测系统，该系统可以按顺序将气体泵送到分析仪或传感器，并读取测量结果。3100S内嵌的警报，报告和分析软件是由在半导体行业具有多年经验的工程师共同开发的。使用以太网，RS485/RS232或4-20mA模拟量模块从4〜6个分析仪或传感器输出数据。每台分析仪均配有用于数据存储和数据输出的内置计算机，还支持远程网络控制，操作或诊断。